mosi2氧化溫度是多少
❶ 陽極氧化需要加熱到多少度
看你需要的陽極氧化膜是什麼外觀及性能要求了，
耐磨性能、氧化膜硬度、鏡面還是砂免要求等等。
高溫能做24 26度都能做，低溫16左右也能做陽極氧化，看電壓、電流密度
常規硫酸陽極氧化情況是18-20度
什麼草酸陽極氧化等等就不說了
❷ 陽極氧化溫度和電壓
氧化液組成及工藝條件如下： 名稱含量(ml/L) 硫酸(H2SO4)100～200 電壓/V3~12 氧化時間/min20~120 電源直流 陰陽極面積比1～1.5 溫度/℃20~30 平均電流密度/A•dm-20.3～10 1)當硫酸(H2SO4)溶液濃度較高時得到的膜容易上色，且顏色較深，膜的空隙率較大；當硫酸(H2SO4)溶液濃度較低時，膜上色微慢，且顏色較淺，膜的空隙率較小。所以要想製得吸附力強，富有彈性的膜可以用濃度較高的氧化液，如果要想硬質而耐磨的氧化膜可以用濃度較低的氧化液。 2)陽極氧化時，初始電流密度對氧化膜的結構影響很大。過高的電流密度會使試件的邊緣膜出現燒焦狀態，還會致使氧化膜非常粗糙。因此，陽極氧化過程中，電流密度應逐步升高到一定值，以後的氧化過程中，電壓波動也最好不要超過2V。當電流密度超過3.3A•dm-2時，隨著電流密度的增加，氧化膜的耐蝕性反而降低，但在電流密度不超過3.3A•dm-2的時候，隨著電流密度的增加，氧化膜的空隙率也增多，易於染色，耐蝕性也較好。 3)在1h之內，氧化膜的生長與氧化時間成正比。但氧化時間過長時，由於氧化膜的表面被電解液溶解，氧化膜的孔徑逐漸變大，膜層也變得粗糙起來。
❸ 石墨電極的氧化溫度
石墨電極開始氧化的溫度是600-700℃
❹ 硅化鉬是什麼，都用在哪些方面
硅化鉬（MoSi2）是一種應用極為普遍的電熱元件材料，具有抗高溫氧化、優異的耐蝕性能和高熔點等特性。其抗氧化性是由於在加熱表面形成了不透氣的玻璃薄膜，使之不受氧、氮、一氧化碳和二氧化硫的破壞，在1700—2000ºK溫度下，二硅化鉬加熱可以工作二、三年之久。但低劣的機械性能影響硅化鉬的應用，如果在硅化鉬中加入SiC形成一種復合材料，這種材料將碳化硅彌散進二硅化鉬的基體中，生成含有鉬原子和硅原子的雙金屬化合物，其高溫強度較二硅化鉬單體高8倍之多，使其應用前景大受青睞。
❺ 二氧化錳煅燒生成三氧化二錳反應溫度，最好是有書或者文獻，謝謝了
二氧化錳加熱煅燒至530～940℃時會變成三氧化二錳，放出氧氣
這是從別人做的題目上摘取到的
❻ 二硅化鉬的性質
MoSi2是Mo－Si二元合金系中含硅量最高的一種中間相，是成分固定的道爾頓型金屬間化合物。具有金屬與陶瓷的雙重特性，是一種性能優異的高溫材料。極好的高溫抗氧化性，抗氧化溫度高達1600℃以上，與SiC相當；有適中的密度(6.24g/cm3)；較低的熱膨脹系數(8.1×10-6K-1)；良好的電熱傳導性；較高的脆韌轉變溫度(1000℃)以下有陶瓷般的硬脆性。在1000℃以上呈金屬般的軟塑性。MoSi主要應用作發熱元件、集成電路、高溫抗氧化塗層及高溫結構材料。 U型硅鉬棒表層的石英玻璃膜在加熱和冷卻的熱應力過程中，由熱脹冷縮而引起的開裂、崩落、減薄，在裂紋及崩落的新表面上重新形成保護膜，該處即出現低於元件表面的凹坑，經一定次數的交替，元件表面形成直徑1；2mm，深度0.2；0.5mm 的連續麻面，最後在最小截面處超溫燒斷。這主要是間隙爐的失效形式。
❼ 二硅化鉬的介紹
二硅化鉬（Molybdenum disilicide， MoSi2 ）是一種鉬的硅化合物，由於兩種原子的半徑相差不大，電負性比較接近，所以其具有近似於金屬與陶瓷的性質。熔點高達2030℃，具有導電性，在高溫下表面能形成二氧化硅鈍化層以阻止進一步氧化，其外觀為灰色金屬色澤，源於其四方α-型晶體結構，也存在六角形但不穩定的β-改性晶體結構[3] 。不溶於大部分酸，但可溶於硝酸和氫氟酸。
❽ 鉬與王水反應
第一個問題：
1、銀白色金屬,硬而堅韌,是難熔金屬元素之一,在元素周期表中為VI B 族元素,原子序數42,原子量95.94,密度10.2克/厘米3,熔點2610℃,沸點5560℃.化合價+2、+4和+6,穩定價為+6.第一電離能7.099電子伏特.在常溫下不受空氣的侵蝕.跟鹽酸或氫氟酸不起反應.
2、在常溫下鉬在空氣或水中都是穩定的,但當溫度達到400℃時開始發生輕微的氧化,當達到600℃後則發生劇烈的氧化而生成MoO 3 .在很高的溫度下鉬於氫也不相互反應,但在1500℃與氮發生反應形成鉬的氮化物.在1100 1200℃以上與碳、一氧化碳和碳氫化合物反應生成碳化物如MoSi 2 ,此MoSi 2 即使在1500 1700℃的氧化氣氛中仍是相當穩定的,不會被氧化分解.
鉬原子有兩個不完全的電子層,它在各種鉬化合物中可為2、3、4、5或6價,這就是說鉬可形成許多種類的化合物.然而鉬最主要的化合物為氧化物、鉬酸及各種類型的鉬酸鹽.鉬的主要化學性質如表所示.
介質 試驗條件 反應情況
水 不腐蝕
HF 冷、熱 不腐蝕
HF+H2SO4 冷 不腐蝕
HF+H2SO4 熱 輕微腐蝕
HF+王水 冷 輕微腐蝕
HF+王水 熱 迅速腐蝕
HF+HNO3 冷、熱 迅速腐蝕
氨水 不腐蝕
熔融鹼 大氣中 輕微腐蝕
熔融鹼 氧化劑如KNO3 ,KNO2 、KclO3 、PbO2中 迅速腐蝕
硼 在高溫下 生成硼化物
碳 1100℃以上 生成碳化物
硅 1100℃以上 生成硅化物
磷 至最高溫度 不腐蝕
硫 440℃以上 生成硫化物
碘 790℃以下 不腐蝕
溴 840℃以下 不腐蝕
氯 230℃以上 強烈腐蝕
氟 室溫 強烈腐蝕
空氣和氧 400℃ 開始氧化
空氣和氧 600℃ 強烈氧化
空氣和氧 700℃以上 MoO3 升華
氫和惰性氣 至最高溫度 不反應
CO 1400℃以上 生成碳化物
CO 2 1200℃ 氧化
碳氫化合物 1100℃ 生成碳化物
Al Ni Fe Co Sb 熔融體 強烈腐蝕
Zn 熔融體 輕微腐蝕
Bi 熔融體 高度腐蝕
玻璃 熔融體 高度腐蝕
難熔氧化物Al2O3 ,ZrO2 ,BeO,MgO,ThO2 1700℃以下 不腐蝕
氮氣 1100℃以上 氮化反應
第二個問題：鹽酸、氫氟酸、稀硝酸及鹼溶液對鉬均不起作用.鉬可溶於硝酸、王水或熱硫酸溶液中.
第三個問題：
AG:銀的化學性質最活潑,它能溶於硝酸生成硝酸銀；易溶於熱的濃硫酸,微溶於熱的稀硫酸；在鹽酸和「王水」中表面生成氯化銀薄膜；與硫化物接觸時,會生成黑色硫化銀
cu:銅不能跟稀鹽酸、稀硫酸發生反應,但能溶於稀硝酸.銅不跟冷的濃硫酸反應,但能跟熱的濃硫酸、濃鹽酸和濃硝酸反應
MO：鹽酸、氫氟酸、稀硝酸及鹼溶液對鉬均不起作用.鉬可溶於硝酸、王水或熱硫酸溶液中.
CR:鉻能溶於稀HCl,H2SO4 .鉻在硝酸、磷酸或HClO4中是惰性的,這是由於生成氧化物保護層而鈍化
綜合判斷 應該是熱的硫酸吧
❾ 請問高錳酸鉀要加熱到多少溫度，或是說加熱到什麼狀態可以生成二氧化
高猛酸鉀受熱分解反應方程式】
2KMnO4 =加熱= K2MnO4+MnO2+O2↑
【實驗所需的材料】
高猛酸鉀，酒精燈，試管，集氣瓶，鐵架台，棉花，導管，玻璃容器
【實驗操作步驟】
①檢查裝置的氣密性。
②裝葯，在試管口放一小團棉花，用帶導管的橡皮塞塞緊試管口，將試管固定在鐵架台上。
③加熱;先均勻受熱再在盛葯品處加熱。
④用排水法收集氧氣;集氣瓶充滿水後倒放入水槽中，要等到氣泡連續、均勻地放出時，再開始收集，否則收集到的氧氣不純，混有空氣。
⑤收集完畢，將導管移出水面。
⑥熄滅酒精燈，停止加熱。
【高錳酸鉀受熱分解知識點總結】
反應類型 分解反應，氧化還原反應
反應物 KMnO4
生成物 K2MnO4,MnO2,O2
反應條件 加熱
反應現象 有紫色的蒸汽，是高猛酸鉀受熱升華形成；另有氧氣放出，是高錳酸鉀受熱分解生成。
高錳酸鉀受熱分解實驗中可能會遇到的問題？
1.高錳酸鉀受熱分解為什麼是氧化還原反應？
解答：高錳酸鉀受熱分解是氧化還原反應，不能說是氧化反應， 氧化還原反應的本質是有電子的轉移(得失或偏移) 。氧化還原反應的特徵就是有元素化合價的升降 高錳酸鉀受熱分解這個反應中， 氧離子由負二價升到了零價， 錳離子由原來的正七價降到了正六價和正四價， 在這個反應中高錳酸鉀既是氧化劑又是還原劑 ，錳酸鉀和二氧化錳是還原產物 氧氣是氧化產物， 只要你記住八個字 升失氧還， 降得還氧這八個字， 化合價升高失電子被氧化發生氧化反應做還原劑， 化合價降低得電子被還原發生還原反應做氧化劑。
2.高錳酸鉀要加熱到多少溫度，或是說加熱到什麼狀態可以生成二氧化錳？
解答：高錳酸鉀熔點是240攝氏度，而在做高錳酸鉀加熱製取氧氣的實驗過程中我們沒有發現高錳酸鉀熔化，因此其分解溫度是低於240度的，實際上高錳酸鉀開始分解時的溫度約為220℃。
3.高錳酸鉀受熱分解後，剩餘固體的質量比原反應物的質量小，為什麼？
解答：反應物有氧氣放出。