酒泉標准高純氣體多少錢

❶ 什麼是標准氣體什麼是特種氣體

氣體工業名詞術語（標准氣體、高純氣體、特種氣體）

1. 特種氣體(Specialty gases) ：指那些在特定領域中應用的, 對氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質氣體配製的二元或多元混合氣。特種氣體門類繁多, 通常可區分為電子氣體、標准氣、環保氣、醫用氣、焊接氣、殺菌氣等, 廣泛用於電子、電力、石油化工、采礦、鋼鐵、有色金屬冶煉、熱力工程、生化、環境監測、醫學研究及診斷、食品保鮮等領域。

2. 標准氣體(Standard gases) ：標准氣體屬於標准物質。標准物質是高度均勻的、良好穩定和量值)准確的測定標准, 它們具有復現、保存和傳遞量值的基本作用, 在物理、化學、生物與工程測量領域中用於校準測量儀器和測量過程, 評價測量方法的准確度和檢測實驗室的檢測能力, 確定材料或產品的特性量值, 進行量 值仲裁等。大型乙烯廠、合成氨廠及其它石化企業, 在裝置開車、停車和正常生產過程中需要幾十種純氣和幾百種多組分標准混合氣, 用來校準、定標生產過程中使用的在線分析儀器和分析原料及產品質量的儀器。標准氣還可用於環境監測, 有毒的有機物測量, 汽車排放氣測試, 天然氣BTU 測量, 液化石油氣校正標准, 超臨界流體工藝等。標准氣視氣體組分數區分為二元、三元和多元標准氣體; 配氣準度要求以配氣允差和分析允差來表徵;比較通用的有SE2M I 配氣允差標准, 但各公司均有企業標准。組分的最低濃度為10- 6級, 組分數可多達20餘種。配製方法可採用重量法, 然後用色譜分析校核, 也可按標准傳遞程序進行傳遞。

3、電子氣體(Elect ron ic gases) ：半導體工業用的氣體統稱電子氣體。按其門類可分為純氣、高純4 _6 m+ p- _4氣和半導體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用於外延、摻雜和蝕刻工藝；高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是特種氣體的一個重要分支。電子氣體按純度等級和使用場合，可分為電子級、L S I (大規模集成電路) 級、VL S I (超大規模集成電路) 級和UL S I (特大規模集成電路)級。

4. 外延氣體(Cp itax ial gases) ：在仔細選擇的襯底上採用化學氣相淀積(CVD) 的方法生長一層或多層材料所用氣體稱為外延氣體。硅外延氣體有4 種, 即硅烷、二氯二氫硅、三氯氫硅和四氯化硅, 主要用於外延硅淀積, 多晶硅淀積, 淀積氧化硅膜, 淀積氮化硅膜, 太陽電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積。外延生長是一種單晶材料淀積並生長在襯底表面上的過程。此外延層的電阻率往往與襯底不同。

5. 蝕刻氣體(Etch ing gases) ：蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金屬膜等蝕刻掉, 而使有光刻膠掩蔽的區域保存下來, 這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是, 圖形邊緣整齊, 線條清晰, 圖形變換差小, 且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鑽蝕。蝕刻方式有濕法化學蝕刻和干法化學蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由於蝕刻方向性強、工藝控制精確、方便、無脫膠現象、無基片損傷和沾污, 所以
其應用范圍日益廣泛。
1. 特種氣體(Specialty gases) ：指那些在特定領域中應用的, 對氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質氣體配製的二元或多元混合氣。特種氣體門類繁多, 通常可區分為電子氣體、標准氣、環保氣、醫用氣、焊接氣、殺菌氣等, 廣泛用於電子、電力、石油化工、采礦、鋼鐵、有色金屬冶煉、熱力工程、生化、環境監測、醫學研究及診斷、食品保鮮等領域。

2、 標准氣體(Standard gases) ：標准氣體屬於標准物質。標准物質是高度均勻的、良好穩定和量值准確的測定標准, 它們具有復現、保存和傳遞量值的基本作用, 在物理、化學、生物與工程測量領域中用於校. d( [准測量儀器和測量過程, 評價測量方法的准確度和檢測實驗室的檢測能力, 確定材料或產品的特性量值, 進行量值仲裁等。大型乙烯廠、合成氨廠及其它石化企業, 在裝置開車、停車和正常生產過程中需要幾十種純氣和幾+百種多組分標准混合氣, 用來校準、定標生產過程中使用的在線分析儀器和分析原料及產品質量的儀器。標准氣還可用於環境監測, 有毒的有機物測量, 汽車排放氣測試, 天然氣BTU 測量, 液化石油氣校正標准, 超臨界流體工藝等。標准氣視氣體組分數區分為二元、三元和多元標准氣體; 配氣準度要求以配氣允差和分析允差來表徵;比較通用的有SE2M I 配氣允差標准, 但各公司均有企業標准。組分的最低濃度為10- 6級, 組分數可多達20餘種配製方法可採用重量法, 然後用色譜分析校核, 也可按標准傳遞程序進行傳遞。

3、 電子氣體(Elect ron ic gases) ：半導體工業用的氣體統稱電子氣體。按其門類可分為純氣、高純氣和半導體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用於外延、摻雜和蝕刻工藝；高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是特種氣體的一個重要分支。電子氣體按純度等級和使用場合，可分為電子級、L S I (大規模集成電路) 級、VL S I (超大規模集成電路) 級和UL S I (特大規模集成電路)級。

4. 外延氣體(Cp itax ial gases) ：在仔細選擇的襯底上採用化學氣相淀積(CVD) 的方法生長一層或多層材料所用氣體稱為外延氣體。硅外延氣體有4 種, 即硅烷、二氯二氫硅、三氯氫硅和四氯化硅, 主要用於外延硅淀積, 多晶硅淀積, 淀積氧化硅膜, 淀積氮化硅膜, 太陽電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積。外延生長是一種單 晶材料淀積並生長在襯底表面上的過程。此外延層的電阻率往往與襯底不同。

5. 蝕刻氣體(Etch ing gases) ：蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金屬膜等蝕刻掉, 而使有光刻膠掩蔽的區域保存下來, 這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是, 圖形邊緣整齊, 線條清晰, 圖形變換差小, 且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鑽蝕。蝕刻方式有濕法化學蝕刻和干法化學蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由於蝕刻方向性強、工藝控制精確、方便、無脫膠現象、無基片損傷和沾污, 所以其應用范圍日益廣泛。

6. 摻雜氣體(Dopant Gases)：在半導體器件和集成電路製造中, 將某種或某些雜質摻入半導體材料內, 以使材料具有所需要的導電類型和一定的電阻率, 用來製造PN結、電阻、埋層等。摻雜工藝所用的氣體摻雜源被稱為摻雜氣體。主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氯化硼和乙硼烷等。通常將摻雜源與運載氣體(如氬氣和氮氣) 在源櫃中混合, 混合後氣流連續流入擴散爐內環繞晶片四周, 在晶片表面沉積上化合物摻雜劑, 進而與硅反應生成摻雜金屬而徙動進入硅。

7. 熏蒸氣體(Sterilizing Gases) ：具有殺菌作用的氣體稱熏蒸氣體。常用的氣體品種有環氧乙烷、磷烷、溴甲烷、溴甲醛、環氧丙烷等。其滅菌原理是利用烷化作用, 使微生物組織內維持生命不可缺少的物質惰化。最經常使用的是以不同比例配製的環氧乙烷和二氧化碳的混合氣, 根據用途不同, 環氧乙烷的含量可以是10 %、20 %和30 %等。也可採用環氧乙烷和氟利昂12 的混合氣,環氧乙烷與氟利昂11 和氟利昂12 的混合氣等。殺菌效果與各組分濃度、溫度、濕度、時間和壓力等因素有關。熏蒸氣體可以用於衛生材料、醫療器具、化妝品原料、動物飼料、糧食、紙鈔、香辣

8. 焊接保護氣體(Welding Gases)：氣體保護焊由於具有焊接質量好, 效率高, 易實現自動化等優點而得以迅速發展。焊接保護氣體可以是單元氣體, 也有二元、三元混合氣。採用焊接保護氣的目的在於提高焊縫質量, 減少焊縫加熱作用帶寬度, 避免材質氧化。單元氣體有氬氣、二氧化碳, 二元混合氣有氬和氧, 氬和二氧化碳, 氬和氦, 氬和氫混合氣。三元混合氣有氦、氬、二氧化碳混合氣。應用中視焊材不同選擇不同配比的焊接混合氣。

9. 離子注入氣( Gases for Ion Implantation)：離子注入是把離子化的雜質, 例如P + 、B + 、As+加速到高能量狀態,然後注入到預定的襯底上。離子注入技術在控制V th(閾值電壓) 方面應用得最為廣泛。注入的雜質量可通過測量離子束電流而求得。離子注入工藝所用氣體稱離子注入氣, 有磷系、硼系和砷系氣體。

10. 非液化氣體(Nonliquefied Gases)：壓縮氣體依據於一定壓力和溫度下在氣瓶中的物理狀態和沸點范圍可以區分為兩大類, 即液化氣體和非液化氣體。非液化氣體系指除溶解在溶液中的氣體之外, 在2111 ℃和罐裝壓力下完全是氣態的氣體。也可定義為在正常地面溫度和13789～17237kPa 壓力下不液化的氣體。

11. 液化氣體( Liquefied Gases )：在2111 ℃和罐裝壓力下部分液化的氣體。或定義為在正常溫度和172142～17237kPa 壓力下在氣瓶中液化的氣體。壓縮氣體(Compressed Gases) 壓縮氣體是指在2111 ℃下, 在氣瓶中絕對壓力超過27518kPa 的任何氣體或混合物; 或與2111 ℃下的壓力無關, 於5414 ℃下絕對壓力超過717kPa 的任何氣體或混合物; 或於3718 ℃下氣體絕對壓力超27518kPa 的任何液體。

12. 稀有氣體(Rare Gases)：元素周期表最後一族的六種惰性氣體中的任何一種氣體, 即氦、氖、氬、氪、氙、氡。前五種氣體均可以空氣分離方法從空氣中提取。

13. 低壓液化氣體(Low P ressu re L iquef ied Gases) ：臨界溫度大於70℃的氣體。區分為不燃無毒和不燃有毒、酸性腐蝕性氣體; 可燃無毒和可燃有毒、酸性腐蝕性氣體; 易分解或聚合的可燃氣體。此類氣體在充裝時以及在允許的工作溫度下貯運和使用過程中均為液態。包括的氣體品種有一氟二氯甲烷、二氟氯甲烷、二氟二氯甲烷、二氟溴氯甲烷、三氟氯乙烷、四氟二氯乙烷、五氟氯乙烷、八氟環丁烷、六氟丙烯、氯、三氯化硼、光氣、氟化氫、溴化氫、二氧化硫、硫醯氟、二氧化氮、液壓石油氣、丙烷、環丙烷、丙烯、正丁烷、異丁烷、1- 丁烯、異丁烯、順- 2-丁烯、反- 2- 丁烯、R142b、R 143a、R152a、氯乙烷、二甲醚、氨、乙胺、一甲胺、二甲胺、三甲胺、甲硫醇、硫化氫、氯甲烷、溴甲烷、砷烷、1, 3—丁二烯、氯乙烯、環氧乙烷、乙烯基甲醚、溴乙烯。

14. 高壓液化氣體(H igh P ressu re L iquef iedGases) ：臨界溫度大於或等於- 10℃且小於或等於70℃的氣體。區分為不燃無毒和不燃有毒氣體; 可燃無毒和自燃有毒氣體; 易分解或聚合的可燃氣體。此類氣體充裝時為液態,但在允許的工作溫度下貯運和使用過程中其蒸汽壓隨溫度的升高而升高, 超過臨界溫度時蒸發為氣體。所包括的氣體品種有一氧化二氮、二氧化碳、三氟甲烷、三氟氯甲烷、三氟溴甲烷、六氟乙烷、六氟化硫、氙、氯化氫、乙烷、乙烯、1, 1- 二氟乙烯、硅烷、磷烷、氟乙烯、乙硼烷。

❷ 高純氣體5n或6n表示什麼意思

摘要 N 是英文nine的簡寫，就是九，幾N就是指其純度是幾個九，3N就是說其純度是99.9%,4N就是99.99%。這是化學中高純物質的通用表示法。主要就在於對純度的控制，最明顯的就在精餾工序，電子級和太陽能級的塔高和數量相差可大了。太陽能能多晶硅純度為小數點後6個9,電子級多晶硅小數點12個9，整個工藝流程電子級比太陽能級在原料純度，管道清洗，提純塔，廠房潔凈度等要求都要高。

❸ 關於高純氣體管道，請問找哪個廠家安裝不錯

高純氣體管道最好是找專業的廠家來提供安裝服務，我們這邊是找的沃飛科技，這個廠家組高純氣體管道的安裝已經有很多年了，以後也會無限的用下去，在這方面有比較多的經驗，能提供專業化的服務，找他們做的高純氣體管道質量穩定，有很長的使用壽命，這個廠家提供的服務好管道質量優質，售後服務也很不錯，確實是一個很靠譜的高純氣體管道廠家。

❹ 高純氣體生產，銷售，廠家，哪家好

你說的高純氣體是99.999%等級純度的高純氣體吧，現在的技術，大量生產一般都沒問題，都是可以量產的東西。我們公司在上海，就是搞氣體的，但願能幫到您。

❺ 公司要采購一台高純氣體氣相色譜儀，費用控制在二十萬左右，誰能推薦一款謝謝了

費用二十萬的話，只能買國內品牌了，杭州格圖，杭州蓋斯都不錯的，前年我們公司買了一台，杭州格圖的，用到現在還不錯。

❻ 高純氣體中4個9指的是什麼意思

n個9代表氣體的純度。99.9%=3N，99.99%=4N 9越多表示氣體的純度越高。價格也會相對較貴。

以紐瑞德氣體氦氣為例：

4n氦氣代表4個9的氦氣，5n氦氣代表5個9氦氣，6n氦氣代表6個9氦氣。
也就是純度在99.99%氦氣、99.999%氦氣、99.9999%氦氣。不同純度的氦氣用途也不同。

3n氦氣，4n氦氣屬於工業氦氣，常常被人們拿來作為充氣球氦氣使用，飛魚氦氣使用，汽艇氦氣使用。
5n氦氣，6n氦氣高純氦氣常常被人拿來做檢漏氦氣、焊接保護氣氦氣，實驗室、科研、醫療、航空等用途。

希望能幫到你記得採納哦！

❼ 高純氬氣標准

法律分析：高純氣體(HighPurityGases)氣體工業名詞，通常指利用現代提純技術能達到的某個等級純度的氣體。對於不同類別的氣體，純度指標不同，例如對於氮，氫，氬，氦而言，通常指純度等於或高於99.999%的為高純氣體。

法律依據：《鼓勵外商投資目錄》 67.大型、高壓、高純度工業氣體（含電子氣體）的生產和供應

❽ 天宮二號空間實驗室有空氣嗎

天宮二號空間實驗室沒有空氣。對航天員來說，地球上的空氣顆粒較多，達不到航天員使用的潔凈標准。因此在太空飛行中，航天員使用的是水分非常低的混合氧氣。酒泉衛星發射中心有一個氮氧站，氮氧站是液氧、液氮、高純氧、高純氮等多種特種氣體的氣源保障單位。

氮氧生產廠房，顧名思義這個地方既能生產液氮，又能生產液氧，不僅航天員進出太空所必備的氧氣是由這里提供的，而且發射中心每一次發射任務所使用的液氮都是由這個廠房所生產的。

氮氧生產：

氧氣和氮氣生產是一個精細復雜的「魔術」過程，它是將看不見、摸不著的空氣進行一場「冰與火」的洗禮：通過凈化、壓縮，消除二氧化碳、水等雜質後，再經過分離、冷凝、蒸餾，從而分離出液氧和液氮。

因為氧和氮在氣體狀態下是無法分離的，必須利用氮和氧不同的沸點進行降溫，將其冷卻後變為液體，從而實現分離。

缺氧可能會窒息，氧氣太充足會誘發氧中毒，情況也不樂觀，所以，艙內的空氣成分控制很重要。另外，二氧化碳是飛船座艙中最多的有害氣體，主要來自於航天員的呼吸代謝。一般而言，艙內二氧化碳分壓不得大於1千帕，達到2千帕則應報警。

長時間處於高濃度二氧化碳環境下，航天員會在不知不覺中喪失性命。為了保證航天員安全，必須在艙內進行強迫對流，驅除呼吸區的二氧化碳。同時，還要對艙內空氣進行凈化，以便維持艙內二氧化碳的正常濃度。

❾ 有需要高純氣體或者普通工業氣體的嗎

工業上，把常溫常壓下呈氣態的產品統稱為工業氣體產品。氣體產品種類繁多，大致可以分為一般工業氣體和特種氣體兩大類。一般工業氣體產銷量大，但對純度要求不高。特種氣體產銷量雖小，但根據不同的用途，對不同特種氣體的純度或組成、有害雜質允許的最高含量、產品的包裝貯運等都有極其嚴格的要求，屬於高技術，高附加值產品。通常，可以將特種氣體分為三類，即高純或超高純氣體、標准校正氣體和具有特定組成的混合氣體。氣體產品作為現代工業重要的基礎原料，應用范圍十分廣泛，在冶金、鋼鐵、石油、化工、機械、電子、玻璃、陶瓷、建材、建築、食品加工、醫葯醫療等部門，均使用大量的常用氣體或特種氣體。

❿ 標准氣和純氣有什麼區別

標准氣體是可以還有其它雜質的氣體，只不過是符合規范的。純氣就是單純的一種氣體，沒有那麼多的雜質。